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產(chǎn)品名稱：
納米氫氧化鎂分散機
產(chǎn)品型號： GMD2000/4更新時間： 2025-04-02描述：納米氫氧化鎂分散機，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機，是由膠體磨+高剪切分散機組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團聚。
產(chǎn)品介紹
納米氫氧化鎂分散機，氫氧化鎂分散機，納米分散機，氫氧化鎂研磨分散機，納米研磨分散機
氫氧化鎂是塑料、橡膠制品優(yōu)良的阻燃劑。在環(huán)保方面作為煙道氣脫硫劑，可代替燒堿和石灰作為含酸廢水的中和劑。亦用作油品添加劑，起到防腐和脫硫作用。另外，還可用于電子行業(yè)、醫(yī)藥、砂糖的精制，作保溫材料以及制造其他鎂鹽產(chǎn)
| （價格電議，劉，） |
在幾乎不影響使用強度的情況下顯著提高材料的阻燃、抑煙、防滴等性能，還可根據(jù)客戶需要，在納米氫氧化鎂生成同時采用適當(dāng)?shù)脑桓男苑椒ǎ瑸樽枞細(xì)溲趸V。
納米氫氧化鎂一般作為改性劑分散到某物質(zhì)當(dāng)中（如橡膠），從而改性物料的特性，zui大的用途便是作為助燃劑。改性的效果取決于納米氫氧化鎂的分散效果。納米級的粉末分散到液體介質(zhì)當(dāng)中容易出現(xiàn)團聚現(xiàn)象，一般的分散設(shè)備無法解決這一難點，而SGN研磨式分散機可以很好的應(yīng)對團聚的現(xiàn)象。
SGN納米氫氧化鎂分散機，是由膠體磨+高剪切分散機組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團聚。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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